工信部公开推广两款国产DUV光刻机！最小套刻≤8nm！多只光刻机概念股走强

 工信部公开推广两款国产DUV光刻机！最小套刻≤8nm！多只光刻机概念股走强

此次入选推广目录的氟化氩光刻机，应属于干式ArF光刻机。在具体指标上，与ASML旗下TWINSCAN NXT：1470以及TWINSCAN XT：1460K类似。

按照市场监管总局等5部门于今年4月联合印发的《中国首台(套)重大技术装备检测评定管理办法(试行)》，重大技术装备是国之重器，事关综合国力和国家安全。中国首台(套)重大技术装备，是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。

国产光刻机实力几何？

据工信微报发文，此次指导目录是为促进首台（套）重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。

具体来看，氟化氪光刻机晶圆直径为300mm（12英寸）；照明波长为248mm；分辨率≤110nm；套刻≤25nm。

相比之下，阿斯麦（ASML）的氟化氪光刻机型号有TWINSCAN NXT：870、TWINSCAN XT：860N和TWINSCAN XT：860M。这三个型号，波长均为248mm；分辨率≤110nm。

而指导目录中更为先进的氟化氩光刻机，其照明波长为193mm，分辨率≤65nm；套刻≤8nm。

这一数据与ASML旗下TWINSCAN XT：1460K最为接近。该型号照明波长为193mm，分辨率≤65nm。此外，该系统可以在偏振照明下实现低至57nm的生产分辨率。

相比之下，ASML浸润式光刻机TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率≤38nm。据民生证券研报，该型号可实现2.5nm的套刻精度（MMO）。

据东海证券援引ASML官网数据，2023年各类光刻机均价为EUV（17386万欧元）、ArFi（7196万欧元）、ArFdry（2742万欧元）、KrF（1192万欧元）、i-Iine（399万欧元）。

东海证券认为，目前光刻机国产化率仅为2.5%，整机技术与海外差距较大，短期5~10年内一方面重点发展90nm、28nm光刻机的研发量产较为关键，一方面重点布局国内半导体零组件发展。

光刻机产业链亟须发展

东海证券称，根据中国国际招标网信息，半导体设备招标中，刻蚀、沉积等核心设备的国产化率获得了较大的提升，核心在于技术上我国相关企业已经逐步追赶上海外企业；但光刻机作为核心设备，国产化率不足3%，核心原因在于零组件供应与整机技术与海外差距较大。

9月18日，