[历史] 不知道是不是真的，我们心心念念的光刻机啊！[第14页]

1965年中国科学院研制出65型接触式光刻机。
1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。
1972年，武汉无线电元件三厂编写《光刻掩模版的制造》。
1977年，我国最早的光刻机-GK-3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机。
1978年，1445所在GK-3的基础上开发了GK-4，但还是没有摆脱接触式光刻机。
1980年，清华大学研制第四代分步式投影光刻机获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。
1981年，中国科学院半导体所研制成功JK-1型半自动接近式光刻机。
1982年，科学院109厂的KHA-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年。
1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到美国4800DSW的水平。这应当是中国第一台分步投影式光刻机，中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。
但是很可惜，光刻机研发至此为止，中国开始大规模引进外资，有了"造不如买”的思想。光刻技术和产业化，停滞不前。放弃电子工业的自主攻关，诸如光刻机等科技计划被迫取消。
九十年代以来，光刻光源已被卡在193纳米无法进步长达20年，这个技术非常关键，这直接导致ASML和台积电在线如此强势的关键。直到二十一世纪，中国才刚刚开始启动193纳米ArF光刻机项目，足足落后ASML20多年。
进入二十一世纪，光刻机研发重新被国家所重视，并于2002年成立SMEE，“我们现在做这个东西，难度不亚于生产大飞机，影响力不低于当初研究原子弹。”

不管是不是真的，我知道南京的熊猫和中山电子都废了，我们的海鸥相机手表也不怎么样了，光学元件这块差日本越来越大！改开是对的，但是只看眼前而放弃的很多我们应该坚持的，而且中饱私囊的不在少数，放弃进而进口是因为有些人在里面搞鬼。祸国殃民啊！

首页上一页[13] 本页[14] 下一页[15] 尾页[18] [收藏本文] 【下载本文】

历史最新文章

加:2021-08-23 21:29:16 更:2021-08-23 21:34:00

娱乐生活: 电影票房娱乐圈娱乐弱智火研中华城市印度仙家六爻佛门风水古钱币交流专用钓鱼双色球航空母舰网球乒乓球中国女排足球 nba 中超跑步象棋体操戒色上海男科 80后
足球: 曼城利物浦队托特纳姆热刺皇家马德里尤文图斯罗马拉齐奥米兰里昂巴黎圣日尔曼曼联

网站联系: qq:121756557 email:121756557@qq.com 知识库